為執行國防專技計畫-紅外線成像尋標器次像素目標檢知關鍵技術，本案派員赴美國 參加2012 年防禦、安全、感測國際研討會暨展覽會，其中單項研討會「紅外線技術與應 用研討會」之重點在紅外線偵檢元件、模組、系統、與影像感測技術等，是世界上最重要 的紅外線技術研討會之一。 針對計畫任務需求，參與包括各式焦平面陣列偵檢元件與應用等研討主題議程，研討 紅外線偵檢元件與模組技術最新發展趨勢。同時參觀展覽會，蒐集參展廠商關於其紅外線 偵檢元件、模組、系統應用等之技術與商情等相關資料，對於本院紅外線焦平面陣列偵檢 元件未來朝向高解析度(如640×512 畫素以上格式)、縮小畫素間距、模組混成封裝等技術 發展均有明顯助益，俾利計畫遂行。