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赴東京文化財研所考察
基本資料
系統識別號: | C09401116 |
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相關專案: | 無 |
計畫名稱: | 赴東京文化財研所考察 |
報告名稱: | 赴東京文化財研所考察 |
電子全文檔: |
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附件檔: | |
報告日期: | 93/08/30 |
報告書頁數: | 15 |
計畫主辦機關資訊
計畫主辦機關: | 國立故宮博物院 http://www.npm.gov.tw |
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出國期間: | 93/08/22 至 93/08/26 |
姓名 | 服務機關 | 服務單位 | 職稱 | 官職等 |
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何傳馨 | 國立故宮博物院 | 書畫處 | 副研究員兼科長 | 簡任 |
報告內容摘要
本次考察計參觀東京文化財研究所情報調整室、保存科學部化學研究室兩個單位。考察項目包括「高精細彩色數位照相」、「可見光域內的螢光數位照相」、「紅外線數位照相」、「螢光X線分析裝置」、「分光光度計裝置」五項。這些不同的數位與非數位的科技檢測,均為未來數位博物館甚至其他科學檢測計畫,提供了可供參考、借鏡的寶貴經驗。
其他資料
前往地區: | 日本; |
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參訪機關: | |
出國類別: | 考察 |
關鍵詞: | 東京文化財研究所 高精細彩色數位照相 可見光域內的螢光數位照相 紅外線數位照相 螢光X線分析裝置 分光光度計裝置 |
備註: |
分類瀏覽
主題分類: | 文化藝術 |
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施政分類: | 文化傳播 |