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國立故宮博物院

赴東京文化財研所考察

基本資料

系統識別號: C09401116
相關專案:
計畫名稱: 赴東京文化財研所考察#
報告名稱: 赴東京文化財研所考察
電子全文檔: C09401116_12252.doc
附件檔:
報告日期: 93/08/30
報告書頁數: 15

計畫主辦機關資訊

計畫主辦機關: 國立故宮博物院 http://www.npm.gov.tw
出國期間: 93/08/22 至 93/08/26
姓名 服務機關 服務單位 職稱 官職等
何傳馨 國立故宮博物院 書畫處 副研究員兼科長 簡任

報告內容摘要

本次考察計參觀東京文化財研究所情報調整室、保存科學部化學研究室兩個單位。考察項目包括「高精細彩色數位照相」、「可見光域內的螢光數位照相」、「紅外線數位照相」、「螢光X線分析裝置」、「分光光度計裝置」五項。這些不同的數位與非數位的科技檢測,均為未來數位博物館甚至其他科學檢測計畫,提供了可供參考、借鏡的寶貴經驗。

其他資料

前往地區: 日本;
參訪機關:
出國類別: 考察
關鍵詞: 東京文化財研究所 高精細彩色數位照相 可見光域內的螢光數位照相 紅外線數位照相 螢光X線分析裝置 分光光度計裝置
備註:

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主題分類: 文化藝術
施政分類: 文化傳播
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