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基本資料
系統識別號: |
C09401116 |
相關專案: |
無 |
計畫名稱: |
赴東京文化財研所考察# |
報告名稱: |
赴東京文化財研所考察 |
電子全文檔: |
C09401116_12252.doc
|
附件檔: |
|
報告日期: |
93/08/30 |
報告書頁數: |
15 |
計畫主辦機關資訊
姓名 |
服務機關 |
服務單位 |
職稱 |
官職等 |
何傳馨 |
國立故宮博物院 |
書畫處 |
副研究員兼科長 |
簡任 |
報告內容摘要
本次考察計參觀東京文化財研究所情報調整室、保存科學部化學研究室兩個單位。考察項目包括「高精細彩色數位照相」、「可見光域內的螢光數位照相」、「紅外線數位照相」、「螢光X線分析裝置」、「分光光度計裝置」五項。這些不同的數位與非數位的科技檢測,均為未來數位博物館甚至其他科學檢測計畫,提供了可供參考、借鏡的寶貴經驗。
其他資料
前往地區: |
日本; |
參訪機關: |
|
出國類別: |
考察 |
關鍵詞: |
東京文化財研究所 高精細彩色數位照相 可見光域內的螢光數位照相 紅外線數位照相 螢光X線分析裝置 分光光度計裝置 |
備註: |
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分類瀏覽