2109年第46屆冶金鍍膜與薄膜技術國際研討會(46th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films, ICMCTF2019)於5月19日至24日在美國加州聖地牙哥Town and Country Resort Hotel舉辦，此研討為國際最大規模的鍍膜研討會。參加本次研討會旨在配合本所電漿計畫執行，以瞭解真空鍍膜技術及設備之最新發展趨勢，包括高功率磁控脈衝電漿源 (High Power Impulse Magnetron Sputtering, HIPIMS)鍍膜技術應用於石墨烯鋰電池及燃料電池、過濾式陰極電弧 (Filter Cathodic Arc Deposition, FCVA) 技術應用於氮化物薄膜與薄膜型氣體感測器等領域研究。特別是大面積電弧電漿鍍膜產業應用之相關技術，可作為未來主要的參考依據。 作者參加本次研討會以口頭方式發表本所電弧電漿鍍膜技術應用於電致變色元件研發成果，本發表技術具低成本、快速沉積鍍膜等優點，未來可導入高單價電致變色元件市場，會場中吸引多方專家關注，更增加本所國際知名度。作者榮幸能與參加此次多領域之國際著名專家學者深入討論，除讓研究思維更加廣闊外，且認識更多專家學者與吸收新知，掌握國際著名相關實驗室研究發展方向，可藉機創造更多的國際合作空間，掌握先機。