行政院原子能委員會核能研究所
參加2016年主動式矩陣顯示元件國際研討會出國報告
基本資料
系統識別號: |
C10502069 |
相關專案: |
無 |
計畫名稱: |
參加國際性薄膜創能、節能及儲能技術研討會及發表論文# |
報告名稱: |
參加2016年主動式矩陣顯示元件國際研討會出國報告 |
電子全文檔: |
C10502069_1.pdf
|
附件檔: |
|
報告日期: |
105/08/24 |
報告書頁數: |
21 |
計畫主辦機關資訊
姓名 |
服務機關 |
服務單位 |
職稱 |
官職等 |
王敏全 |
行政院原子能委員會核能研究所 |
物理組 |
副研究員 |
薦任 |
報告內容摘要
2016年主動式矩陣顯示元件國際研討會會議主題以光電產業技術為主。此會議為日本光電業者每年一度最重要的會議之一,會中所發表之論文與論壇主題每年隨著世界上最新技術及應用發展更新,並提供最新的研發訊息。而在2016年本次會議主要兩個研發重點領域為透明氧化物薄膜材料的開發與應用以及近期熱門的鈣鈦礦薄膜太陽能電池材料及製程技術。其中,以電漿濺鍍方式製作之氧化物薄膜於半導體應用已趨近成熟,已陸續應用於現有的消費型電子產品上,但製造成本依舊偏高且主要關鍵技術仍被日本顯示器大廠所掌握。而氧化物薄膜的研發主題後續除了朝更多應用領域拓展外,主要目標設定在可撓式基材上實現元件製作為主要研發領域,包含了濺鍍、塗佈及圖案化設備開發以及關鍵材料的開發等領域。而針對鈣鈦礦薄膜太陽能電池的研發領域,目前仍以小面積高效率方面有較佳的進展,但距離鈣鈦礦薄膜太陽能電池要能實際應用仍有許多瓶頸需要克服,例如長期的可靠度、大面積製作良率、無毒材料的取代以及材料理論基礎等皆需各國研發單位持續投入相關領域的開發。由於光電科技產業於製程及設備的使用上具有相當高的同質性,許多應用於光電科技產業電漿鍍膜製程設備與薄膜元件所使用之設備皆為同一家廠商所開發,包含大面積化均勻鍍膜及製程技術,於整體技術研發的藍圖上具有極高的一致性。藉由參與此技術研討會,發表電致變色研發成果論文與國內外光電領域專家及設備商進行交流獲得更多可撓式製程技術資訊及相關研究發展方向,並與各國頂尖專家交流加速本所在可撓式製程設備技術之開發。
此外,針對上述兩個研發領域的具體建議為透明半導體元件主流製程技術仍以電漿濺鍍技術為主,顯示電漿鍍膜製程技術仍為光電元件鍍膜發展主流,與本所目前電漿領域發展方向一致,雖然在顯示器領域已趨近成熟,在開發策略上可針對透明金屬氧化物特殊的材料特性,進行其它領域應用之先期開發研究,並憑藉著顯示器領域所帶動之設備迅速發展,有效縮短產品開發的量產期程。而鈣鈦礦型太陽能電池材料研發則為太陽能電池研發重點項目,主要藉由電漿電濺鍍、蒸鍍以及材料合成技術成膜,目前國外已有不錯的突破,建議可藉由國際合作方式加速本所在此領域的研發速度。
其他資料
前往地區: |
日本; |
參訪機關: |
AMFPD2016國際研討會 |
出國類別: |
其他 |
關鍵詞: |
電漿鍍膜,電致變色,薄膜元件 |
備註: |
|
分類瀏覽
主題分類: |
科學技術 |
施政分類: |
國外研究、考察及國際會議 |