由於薄膜材料具有特殊的材料性能，因此能成為現代材料科學各分支中發展最為快速的一支。二氧化鉿(HfO2)薄膜具有相當好的物理、化學、導電及光學性質，所以是很重要的科技材料，並且有很多光學及微電子方面的應用。鎢(W)材料具有高硬度、高熔點、低摩擦係數、高氧化阻抗及高腐蝕阻抗等特點，然而，國內外利用鎢離子來摻雜二氧化鉿薄膜的文獻報導尚少，目前只有出國人員於2013年被國際SCI期刊Surface & Coating Technology所接受發表的一篇論文(Structure and physical properties of W-doped HfO2 thin films deposited by simultaneous RF and DC magnetron sputtering)。因為目前尚無文獻報導基板溫度對於摻雜鎢於二氧化鉿薄膜特性之效應，而且此國際研討會是每一年舉辦一次的表面、鍍膜及奈米材料之大型國際研討會，所以參加此國際會議，是一個發表本國學術近期研究的好機會，而且可與來自世界各地相關領域的學者專家們直接交流彼此的研究心得與鍍膜技術，則將有助於學術探討與科技發展，並且對於出國人員掌握國內外產業界、學界之脈動及個人研究方向之規劃，有相當大的助益，進而能強化出國人員的研究能量。