2012年3月04-08日在日本名古屋舉辦國際先進電漿技術及其氮化物與奈米材料應用研討會，為每一年舉辦一次之重要國際會議，ISPlasma2012 是由優秀的研究人員來自世界各地聚集在日本名古屋，在研究領域的電漿技術、電漿科學開發並應用於氮化物半導體奈米材料，建立機制並技術轉移給業界廣泛的討論，在世界上是空前的會議。會議召開的公告，討論最新的研究成果，旨在促進形成國際先進的電漿奈米科學中心的東海地區。此外，能源利用技術，環境科學及其應用開發的電漿技術，目的還在於提出解決的問題，如全球變暖和能源資源已成為一個全球性問題。藉由參與此會議可以多加接觸各國學者並與之交流，藉著聽取別人的經驗希望可以促進台灣半導體產業更走入國際市場。對於參加 ISPlasma2012 國際會議對於我本人幫助良多，能有更多的機會與國際知名學者交流，聽取前輩們的經驗與建議以使自己的知識與研究都能更進步，並期許未來自己能在台灣這塊土地上對於半導體發展有所貢獻。預計於返台後即可開展相關工作。回顧此次出訪日本六天中，雖然行程緊湊，報告、參訪與討論工作繁重，但所達成的目標與成果非常豐碩，對於提升本校國際知名度與國際級研究成果都將有莫大助益。