目前I-line 步進機在深次微米微影製程中，扮演著重要的角色，主要是用來搭配先進曝光機台（如KrF、ArF、E-beam）做非關鍵層（non-critical layer）的曝光，稱作Mix-and-Match Lineup，用以平衡關鍵層曝光要求和整體產能和成本。目前國內的學術界並未具有此設備，毫微米實驗室在政府支持下引進此設備後，將能提昇本單位對於新製程的開發能力。特別是在本設備建立後配合尖端電子束曝光步進機(LEICA WEPRINT 200)之先進微影技術，以期能大幅提昇台灣學術界對於半導體製程之研發能力。另外本設備將來可對學界及產業界的半導體研究發展計劃提供合作或服務等業務，並可同時加強學生對先進微影製程之理論基礎與實務經驗，為未來半導體產業人才之培訓奠下紮實的根基。基於前述理由，此提案受到相關召集委員大力支持，故編列預算採購。參加本次訓練的目的在瞭解Canon公司I5+步進機台的操作原理和方法，此機台的相關操作相當複雜，例如圖罩的規格和製作、機台的參數設定與調校、軟體的操作、製程條件…等等。期瞭解上述相關資訊後，能在驗機程序上有足夠的相關知識審視規格。 另外，將相關的資料整理帶回實驗室，使其他同仁獲知該機台之相關規格，並能在NDL裝機及驗機前做好準備工作，例如實驗室空間的安排、底材與光阻材料的準備、驗機工具的安排、及其他必須搭配的事項等等。