本會議第4屆先進電漿科學與其應用於氮化物和奈米材料國際研討會The 4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2012)已舉辦第4年了，今年亦是在日本的名古屋，舉行期間為3月4日至3月8日，會議地點在名古屋的中部大學(Chubu University)。參加這次會議的目的主要是想深入了解各國學者研究的動態，即先進電漿科學與其應用於氮化物和奈米材料的最新研究。此會議在電漿科學與氮化物及奈米材料之應用領域中，是一極為重要的國際會議。此會議涵蓋所有電漿科學和奈米科技的技術，各學術界、產業界、研究單位及政府相關機構之學者專家先進共襄盛舉、踴躍賜稿，提供最新學術研究及實證成果，並達產官學研實務應用與理論研究之經驗分享與心得交流。此會議共來自各種不同領域的技術性論文參與，主題內容有基礎研究和商業性的應用例如利用各種技術合成氮化物及奈米材料與探討微結構和性質及做成各種元件應用於電漿科學與氮化物及奈米材料之研究。機械系張莉毓副教授在這一次的國際會議中被接受一篇論文：Microstructures and optoelectronic properties of ITO films prepared by ion beam sputtering以離子束濺鍍法製備ITO薄膜之微結構和光電性質之研究。另一方面，大會邀請了許多相關方面的專家來演講，有日本當地、南韓和大陸及歐美等的學者，內容主要是電漿科學與氮化物及奈米材料之應用領域及未來展望，和其實驗室研究的一些成果，內容生動有趣。