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國立高雄應用科技大學

參加「2015 228th ECS 電化學國際會議」

基本資料

系統識別號: C10404024
相關專案:
計畫名稱: 奈米凹刻轉印機械特性與奈米磨潤界面之分子動力學與實驗研究#
報告名稱: 參加「2015 228th ECS 電化學國際會議」
電子全文檔: C10404024_2.odt C10404024_52629.doc
附件檔:
報告日期: 104/11/03
報告書頁數: 4

計畫主辦機關資訊

計畫主辦機關: 國立高雄應用科技大學
出國期間: 104/10/10 至 104/10/17
姓名 服務機關 服務單位 職稱 官職等
方得華 國立高雄應用科技大學 機械系 教授 教師

報告內容摘要

參加「2015 228th The Electrochemical Society (28th ECS 2015)」 2015年國際電化學會議(228th ECS 2015)」在美國亞利桑那州鳳凰城舉辦。本團隊發表一篇論文發表於228th ECS 2015,標題為: Metal oxide conductivity and nanomechanical properties of ZnO/Mo/ZnO multilayer thin films deposited by RF magnetron sputtering相關的研究成果。 在鳳凰城市中心的Hyatt Regency飯店會議中心展開一系列的學術與工程研討會交流。會議討論中藉由各國之優秀學者發表學術論文中的專業研究、技術研發、功能檢測、學理分析與計算、製程籌劃等值得我國學研單位學習與效仿。從發表成果中說明了未來科學導向與標竿,而各工程領域結合協同材料科學應用是未來功能元件與新興材料發展之重點。 對於各科學領域之專業技能與學術發展方面,我國研究單位應繼續努力與全世界齊步並繼續努力開發科研潛能,並藉由培訓優秀的科研人才、強化專業學識與工程開發。未來,亦可將科學研究導向融入更多的工程開發與開創新穎的學術與工程價值,建議學校應該可以多多培訓人才與積極媒合業界參與學術相關活動與研究。參加本次議程可以促進本校研究生與教授國際學術交流的機會,並增進學校的知名度。

其他資料

前往地區: 美國;
參訪機關: 美國亞利桑那州鳳凰城Hyatt Regency飯店,ECS 電化學國際會議
出國類別: 其他
關鍵詞: 國際電化學會議,Hyatt Regency飯店
備註: 科技部-奈米凹刻轉印機械特性與奈米磨潤界面之分子動力學與實驗研究計畫 MOST103-2221-E-151-007-MY3

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主題分類: 教育
施政分類: 國外研究、考察及國際會議
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