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國立中興大學

國際微處理和奈米技術會議

基本資料

系統識別號: C10204788
相關專案:
計畫名稱: 國際微處理和奈米技術會議#
報告名稱: 國際微處理和奈米技術會議
電子全文檔: C10204788_45034.pdf
附件檔:
報告日期: 102/11/25
報告書頁數: 5

計畫主辦機關資訊

計畫主辦機關: 國立中興大學
出國期間: 102/11/04 至 102/11/09
姓名 服務機關 服務單位 職稱 官職等
薛秦 國立中興大學 材料科學與工程學系 博士班研究生 其他

報告內容摘要

本研究利用雙離子束濺鍍系統製備鎳鐵/氧化鐵雙層薄膜,探討離子束轟擊氧化鐵表面對鎳鐵/氧化鐵雙層薄膜之磁性質影響,在離子束轟擊氧化鐵表面之鎳鐵/氧化鐵雙層薄膜結構分析(X光繞射儀、電子顯微鏡)結果顯示:鎳鐵/氧化鐵雙層薄膜均含有面心立方結構隻鎳鐵、剛玉型六方最密堆積結構之氧化鐵,並由電子能譜化學分析儀證實鎳鐵/氧化鐵雙層薄膜界面無擴散現象。磁性質分析結果顯示:室溫下,鎳鐵/氧化鐵雙層薄膜無明顯之交換偏壓。鎳鐵/氧化鐵雙層薄膜由室溫場冷到160K時,經70V轟擊後之樣品磁異向性降低,使矯頑磁力=較未轟擊之樣品小。場冷至10K下,未經離子束轟擊之鎳鐵/氧化鐵雙層膜具有最大之矯頑磁力約204Oe,而經70V轟擊之樣品具有最大之交換偏壓。最後,由磁化量對溫度之相依性結果顯示:經70V轟擊後之鎳鐵/氧化鐵雙層薄膜具有最高之阻隔溫度,而未經離子束轟擊之樣品則具有最高之不可逆溫度。

其他資料

前往地區: 日本;
參訪機關: 第二十六屆國際微處理和奈米技術會議
出國類別: 其他
關鍵詞: 交換偏壓,離子束轟擊
備註:

分類瀏覽

主題分類: 科學技術
施政分類: 大學及研究所教育
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